紅外光學(xué)溫度計(jì)

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紅外光學(xué)溫度計(jì)

紅外光學(xué)溫度計(jì)是一種測(cè)量光并通過(guò)校準(zhǔn)以指示溫度的設(shè)備。紅外光學(xué)溫度計(jì)檢測(cè)來(lái)自熱物體的輻射通量，并利用普朗克黑體輻射方程算法來(lái)計(jì)算物體的表面溫度。所用的算法是基于普朗克黑體輻射方程。
紅外光學(xué)溫度計(jì)通過(guò)測(cè)量物體輻射的紅外能量來(lái)計(jì)算物體的表面溫度。半導(dǎo)體行業(yè)的紅外溫度計(jì)主要應(yīng)用于晶體生長(zhǎng)階段，分為Si探測(cè)器、銦鎵砷探測(cè)器以及熱電堆探測(cè)器三種。從測(cè)溫原理上分為比色和單色，從光通形式分為透鏡型及光導(dǎo)型。
和其光電HQ-RTS系列紅外溫度計(jì)可應(yīng)用于MOCVD、氧化擴(kuò)散爐、PVD、CVD、ALD等半導(dǎo)體設(shè)備，具有高精準(zhǔn)度、高重復(fù)性、高可靠性、可定制、技術(shù)支持快速響應(yīng)等諸多優(yōu)勢(shì)。

綜合優(yōu)勢(shì)

1、全部件國(guó)產(chǎn)化，無(wú)供應(yīng)鏈卡脖子風(fēng)險(xiǎn)。

2、技術(shù)指標(biāo)可溝通定制，側(cè)重點(diǎn)關(guān)注區(qū)域：

A.光學(xué)系統(tǒng)根據(jù)實(shí)際視場(chǎng)條件設(shè)計(jì)，同等條件下能量利用率更高，信噪比更高，精度更高；

B.電路指標(biāo)根據(jù)重點(diǎn)關(guān)注溫度區(qū)段定制化設(shè)計(jì)，將對(duì)應(yīng)區(qū)段信號(hào)特殊處理，局部區(qū)域噪音更低、倍率更高，獲得更高信號(hào)穩(wěn)定性、精度、分辨率；

C.機(jī)械變焦范圍根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)計(jì)，滿足設(shè)計(jì)指標(biāo)的前提下機(jī)身瘦身，更小的空間內(nèi)實(shí)現(xiàn)更多功能；

D.瞄準(zhǔn)方式如目視光路、激光瞄準(zhǔn)、ccd圖像監(jiān)視等可根據(jù)需求定制；

E.通信方式支持EtherCat EtherNet等工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)標(biāo)準(zhǔn)接口。

3、技術(shù)支持、溝通響應(yīng)速度高。

4、安裝、使用操作等可提供專業(yè)技術(shù)人員現(xiàn)場(chǎng)操作、培訓(xùn)。

上一個(gè)：測(cè)溫光纖

下一個(gè)： IC Wafer